अर्धचालक वेफर निरीक्षणको क्षेत्रमा, सफा कोठा वातावरणको शुद्धता उत्पादन उपजसँग प्रत्यक्ष रूपमा सम्बन्धित छ। चिप उत्पादन प्रक्रियाहरूको शुद्धतामा सुधार हुँदै जाँदा, पत्ता लगाउने उपकरणहरूको बोक्ने प्लेटफर्महरूको आवश्यकताहरू बढ्दो रूपमा कडा हुँदै गइरहेका छन्। शून्य धातु आयन रिलीज र कम कण प्रदूषणको विशेषताहरूको साथ ग्रेनाइट प्लेटफर्महरूले परम्परागत स्टेनलेस स्टील सामग्रीहरूलाई उछिनेका छन् र वेफर निरीक्षण उपकरणहरूको लागि मनपर्ने समाधान बनेका छन्।
ग्रेनाइट एक प्राकृतिक आग्नेय चट्टान हो जुन मुख्यतया क्वार्ट्ज, फेल्डस्पार र अभ्रक जस्ता गैर-धातु खनिजहरू मिलेर बनेको हुन्छ। यो विशेषताले यसलाई शून्य धातु आयन रिलिजको फाइदा दिन्छ। यसको विपरित, फलाम, क्रोमियम र निकल जस्ता धातुहरूको मिश्र धातुको रूपमा स्टेनलेस स्टील, सफा कोठा वातावरणमा पानीको वाष्प र अम्लीय वा क्षारीय ग्याँसहरूको क्षरणको कारणले यसको सतहमा इलेक्ट्रोकेमिकल क्षरणको जोखिममा हुन्छ, जसले गर्दा Fe²⁺ र Cr³⁺ जस्ता धातु आयनहरूको वर्षा हुन्छ। एक पटक यी साना आयनहरू वेफरको सतहमा संलग्न भएपछि, तिनीहरूले फोटोलिथोग्राफी र एचिंग जस्ता पछिल्ला प्रक्रियाहरूमा अर्धचालक सामग्रीको विद्युतीय गुणहरू परिवर्तन गर्नेछन्, ट्रान्जिस्टरको थ्रेसहोल्ड भोल्टेज ड्रिफ्ट निम्त्याउनेछन्, र सर्किटमा सर्ट सर्किटहरू पनि निम्त्याउनेछन्। व्यावसायिक संस्था परीक्षण डेटाले देखाउँछ कि ग्रेनाइट प्लेटफर्मलाई १००० घण्टाको लागि सिमुलेटेड सफा कोठाको तापक्रम र आर्द्रता वातावरण (२३±०.५℃, ४५%±५% RH) मा निरन्तर उजागर गरिएपछि, धातु आयनहरूको रिलिज पत्ता लगाउने सीमा (<०.१ppb) भन्दा कम थियो। स्टेनलेस स्टील प्लेटफर्महरू प्रयोग गर्दा धातु आयन प्रदूषणको कारणले हुने वेफरहरूको दोष दर १५% देखि २०% सम्म उच्च हुन सक्छ।
कण प्रदूषण नियन्त्रणको सन्दर्भमा, ग्रेनाइट प्लेटफर्महरूले पनि असाधारण रूपमा राम्रो प्रदर्शन गर्छन्। सफा कोठाहरूमा हावामा निलम्बित कणहरूको सांद्रताको लागि अत्यन्त उच्च आवश्यकताहरू हुन्छन्। उदाहरणका लागि, ISO कक्षा १ सफा कोठाहरूमा, प्रति घन मिटर अनुमति दिइएको ०.१μm कणहरूको संख्या १० भन्दा बढी हुँदैन। स्टेनलेस स्टील प्लेटफर्मले पालिसिङ उपचार गराएको भए पनि, यसले उपकरण कम्पन र कर्मचारी सञ्चालन जस्ता बाह्य शक्तिहरूको कारणले धातुको मलबे वा अक्साइड स्केल पिलिङ उत्पादन गर्न सक्छ, जसले पत्ता लगाउने अप्टिकल मार्गमा हस्तक्षेप गर्न सक्छ वा वेफरको सतहलाई स्क्र्याच गर्न सक्छ। ग्रेनाइट प्लेटफर्महरू, तिनीहरूको घना खनिज संरचना (घनत्व ≥२.७g/cm³) र उच्च कठोरता (मोह्स स्केलमा ६-७) भएको, लामो समयसम्म प्रयोगको क्रममा लगाउने वा भाँचिने सम्भावना हुँदैन। मापन गरिएका मापनहरूले देखाउँछन् कि तिनीहरूले पत्ता लगाउने उपकरण क्षेत्रको हावामा निलम्बित कणहरूको सांद्रतालाई स्टेनलेस स्टील प्लेटफर्महरूको तुलनामा ४०% भन्दा बढीले घटाउन सक्छन्, प्रभावकारी रूपमा सफा कोठा ग्रेड मापदण्डहरू कायम राख्छन्।
यसको सफा विशेषताहरूको अतिरिक्त, ग्रेनाइट प्लेटफर्महरूको व्यापक प्रदर्शन पनि स्टेनलेस स्टीलको भन्दा धेरै बढी छ। थर्मल स्थिरताको सन्दर्भमा, यसको थर्मल विस्तारको गुणांक केवल (४-८) ×१०⁻⁶/℃ हो, जुन स्टेनलेस स्टीलको आधा भन्दा कम हो (लगभग १७×१०⁻⁶/℃), जसले सफा कोठामा तापक्रममा उतारचढाव हुँदा पत्ता लगाउने उपकरणको स्थिति शुद्धतालाई राम्रोसँग कायम राख्न सक्छ। उच्च ड्याम्पिङ विशेषता (ड्याम्पिङ अनुपात > ०.०५) ले उपकरणको कम्पनलाई द्रुत रूपमा कम गर्न सक्छ र पत्ता लगाउने प्रोबलाई हल्लाउनबाट रोक्न सक्छ। यसको प्राकृतिक जंग प्रतिरोधले अतिरिक्त कोटिंग सुरक्षाको आवश्यकता बिना फोटोरेसिस्ट सॉल्भेन्ट्स, एचिंग ग्यासहरू र अन्य रसायनहरूको सम्पर्कमा आउँदा पनि यसलाई स्थिर रहन सक्षम बनाउँछ।
हाल, ग्रेनाइट प्लेटफर्महरू उन्नत वेफर उत्पादन प्लान्टहरूमा व्यापक रूपमा प्रयोग गरिन्छ। तथ्याङ्कले देखाउँछ कि ग्रेनाइट प्लेटफर्म अपनाएपछि, वेफर सतह कण पत्ता लगाउने गलत अनुमान दर ६०% ले घटेको छ, उपकरण क्यालिब्रेसन चक्र तीन गुणाले बढेको छ, र समग्र उत्पादन लागत २५% ले घटेको छ। अर्धचालक उद्योग उच्च परिशुद्धता तर्फ अघि बढ्दै जाँदा, ग्रेनाइट प्लेटफर्महरू, शून्य धातु आयन रिलीज र कम कण प्रदूषण जस्ता मुख्य फाइदाहरू सहित, वेफर निरीक्षणको लागि स्थिर र भरपर्दो समर्थन प्रदान गर्न जारी रहनेछ, उद्योगको प्रगतिलाई चलाउने एक महत्त्वपूर्ण शक्ति बन्नेछ।
पोस्ट समय: मे-२०-२०२५